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Polvo de tamiz molecular para la eliminación de rastros de humedad

Polvo de tamiz molecular para la eliminación de rastros de humedad

Introducción del producto: Las cantidades mínimas de agua son un problema en la producción y preparación de productos de poliuretano (PU). Pequeñas cantidades de agua en el poliol reaccionan con el isocianato para formar dióxido de carbono, lo que da como resultado la espuma. Al mismo tiempo, se libera una gran cantidad de calor, lo que...
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Product Details ofPolvo de tamiz molecular para la eliminación de rastros de humedad
Como uno de los fabricantes más profesionales de polvo de tamiz molecular activado de marcas famosas, le damos una calurosa bienvenida para que nos compre el polvo de tamiz molecular para la eliminación de trazas de humedad. Se ofrecerá un precio bajo y un excelente servicio postventa.

 

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Introducción del producto:

Las trazas de agua son un problema en la producción y preparación de productos de poliuretano (PU). Pequeñas cantidades de agua en el poliol reaccionan con el isocianato para formar dióxido de carbono, lo que da como resultado la espuma. Al mismo tiempo, se libera una gran cantidad de calor, lo que acorta la vida útil del producto. En industrias especiales como pinturas, recubrimientos, resinas, solventes, adhesivos, etc., la humedad residual puede causar efectos adversos. Por ejemplo, en zinc metálico o revestimientos, la humedad residual reaccionará con el zinc activo, el aluminio y otros pigmentos metálicos para generar gas hidrógeno, hará que la presión en el tanque sea demasiado alta e incluso provocará fugas en casos extremos.


Polvo de tamiz molecular activado CHEMXINes el polvo de tamiz molecular original después del tostado y la activación a alta temperatura y tiene un proceso de eliminación de agua, que tiene una excelente dispersabilidad y una fuerte actividad de adsorción.

Agregar este producto al poliuretano, adhesivo, pintura, caucho y otros sistemas de productos puede absorber rastros de humedad de manera efectiva y selectiva e inhibir la aparición de reacciones secundarias, lo que reduce la generación de burbujas de aire y prolonga la vida útil.

Principios químicos: RHCO más H2O--RNH2 más CO2


Aplicación del producto:

1. Recubrimientos y molduras de Poliuretano 2K.

2. Protección de almacenamiento de poliuretano 1K.

3. Protección de almacenamiento para pintura de pigmento metálico.

4. Sistemas de polisulfuro y silicona.

5. Portadores de productos químicos de liberación controlada.

6. Coadyuvantes tecnológicos para la producción de polímeros.

7. Desecante para la producción de materiales desecantes poliméricos.

8. Aditivo cosmético.

9. Aditivos de protección de almacenamiento para productos altamente higroscópicos.

10. Aditivos para retardantes de llama.

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Solución:

La solución más efectiva para eliminar rastros de humedad en el mercado hoy en día es el uso de tamiz molecular en polvo. Puede absorber agua rápidamente y evitar que el agua reaccione con los ingredientes activos, para garantizar la calidad del producto, prolongar el período de almacenamiento, aumentar la uniformidad y la resistencia y resolver los problemas anteriores.

Cómo utilizar ?

1. Mezcle el polvo de activación del tamiz molecular en el material, la proporción de adición es del 2 al 5 por ciento

2. Filtrar - filtrar las impurezas.

3. Producto terminado: superficie lisa y sin burbujas de aire.

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